Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
29/10/2019
RPI 2547
Dados do pedido
Número
PI0922894Tipo
Depósito
Publicação
PCT
FR2009052320 Pedido indeferido em 29/10/2019 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 29/10/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
E. I. (pessoa física)
FR
ESSILOR INTERNATIONAL (COMPAGNIE GÉNÉRALE D'OPTIQUE)
FR
Renault S.A.S.
FR
Solvay (Société Anonyme)
BE
Inventores
A. R. (pessoa física)
FR
D. S. (pessoa física)
FR
L. M. (pessoa física)
FR
M. L. (pessoa física)
BE
N. C. (pessoa física)
FR
S. B. (pessoa física)
FR
S. D. (pessoa física)
FR
V. B. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
08 58331 · 08/12/2008
Resumo técnico
PROCESSO DE PREPARO DE UM MATERIAL POLÃMERO TRANSPARENTE, COMPREENDENDO NANOPARTÃCULAS MINERAIS, TENDO UM FATOR DE FORMA ESTRITAMENTE SUPERIOR A 1,0.A presente invenção refere-se a um processo de preparo de um material polÃmero transparente que compreende em uma ordem indiferente as etapas I e II que consistem em: I. misturar: nanopartÃculas minerais que têm um fator de forma estritamente superior a 1,0, e uma matriz polÃmero que compreende uma quantidade de pelo menos 80% em massa de um primeiro polÃmero termoplástico de policarbonato (PC), e um segundo polÃmero termoplástico transparente diferente do primeiro polÃmero termoplástico, para se obter uma mistura; II. aquecer a matriz polÃmero sozinha ou em mistura, no estado fundido, para se obter o material polÃmero transparente, a mistura da etapa I compreendendo uma quantidade estritamente inferior a 5% em massa de nanopartÃculas minerais que têm um fator de forma estritamente superior a 1,0.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
29/10/2019
RPI 2547
#9.2
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