Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
26/07/2016
RPI 2377
Dados do pedido
Número
PI0914059Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2009059263 Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 01/10/2009, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/07/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
DOW GLOBAL TECHNOLOGIES LLC
US
Inventores
C. E. (pessoa física)
US
C. H. (pessoa física)
NL
J. W. (pessoa física)
CN
L. H. (pessoa física)
US
M. D. (pessoa física)
US
O. B. (pessoa física)
NL
S. M. (pessoa física)
US
S. H. (pessoa física)
NL
T. K. (pessoa física)
US
W. Y. (pessoa física)
US
W. Z. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
61/103,374 · 07/10/2008
Resumo técnico
POLÃMERO A BASE DE ETILENO E PROCESSO PARA PREPARAR UM POLÃMERO A BASE DE ETILENO. A presente invenção descreve um polÃmero a base de etileno com uma densidade de cerca de 0, 90 a cerca de 0, 94 em gramas por centÃmetros cúbicos, com uma distribuição de peso molecular (Mw/Mn) de cerca de 2 a cerca de 30; um Ãndice de fusão (I 2 ) de cerca de 0,01 a cerca de 50 gramas por 10 minutos, e compreendendo ainda enxofre de cerca de 5 a cerca de 400 partes por milhão. A quantidade de enxofre também é determinada com base no peso total do polÃmero a base de etileno. Também é descrito um processo para preparo de um polÃmero a base de etileno, o qual inclui as etapas de dividir um fluido de processo para liberação em um reator tubular; alimentar a corrente de alimentação do processo a montante em uma primeira zona de reação e pelo menos uma corrente de alimentação do processo a jusante em pelo menos uma outra zona de reação; sendo que o fluido de processo tem uma velocidade média de pelo menos 10 metros por segundos; e iniciar urna reação de polimerização de radical livre.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#11.1.1
26/07/2016
RPI 2377
#11.1
12/04/2016
RPI 2362
#1.3
03/11/2015
RPI 2339
#1.1
06/09/2011
RPI 2122
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