Dados do pedido
Número
PI0913301Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2009056640 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 31/12/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Solvay
BE
Inventores
A. P. (pessoa física)
BE
D. B. (pessoa física)
BE
M. L. (pessoa física)
BE
M. S. (pessoa física)
BE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
08157516.9 · 03/06/2008
Resumo técnico
PROCESSO PARA A FABRICAÇÃO DE PELO MENOS UM COMPOSTO DERIVADO DE ETILENO. Processo para a fabricação de pelo menos um composto 5 derivado de etileno iniciando-se de um gás residual de baixo valor, de preferência um RUG, de acordo com o qual: a) o gás residual de baixo valor é submetido a uma série de etapas de tratamento em uma unidade de recuperação de gás residual de baixo valor de modo a remover os componentes indesejáveis nela presentes e obter uma mistura de produtos que 10 contêm etileno e outros constituintes; b) a referida mistura de produtos é fracionada em uma etapa de fracionamento em urna fração contendo quase todo o etileno (fração A), opcionalmente em uma fração individual de etano e em uma fração pesada (fração C); e c) a fração A é conduzida para a fabricação de pelo menos um composto derivado de etileno. r
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2540 de 10-09-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
31/12/2019
RPI 2556
#8.6
Referente às 8ª, 9ª e 10ª anuidades.
10/09/2019
RPI 2540
#1.3
03/09/2019
RPI 2539
28/05/2019
RPI 2525
26/03/2019
RPI 2516
#15.11
As Classificações Anteriores eram: C07C 17/02 , C07C 17/156 , C07C 17/25 , C07C 19/045 , C07C 21/06
19/02/2019
RPI 2511
#1.3.2
Anulada a publicação código 1.3 na RPI nº 2493 de 16/10/2018 por ter sido indevida.
23/10/2018
RPI 2494
#1.3
16/10/2018
RPI 2493
#1.1
30/08/2011
RPI 2121
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