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Dado oficial do INPI

APARELHO DE DESGASEIFICAÇÃO A VÁCUO, APARELHO PARA PRODUZIR PRODUTOS DE VIDRO E PROCESSO PARA PRODUZIR PRODUTOS DE VIDRO

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · JP2009060009

Dados do pedido

Número

PI0912139

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/06/2009

Publicação

03/11/2015

PCT

JP2009060009

Andamento no INPI

  1. Depósito01/06/09
  2. Publicação03/11/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado: a exigência técnica do INPI não foi cumprida no prazo (art. 36 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 26/03/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Asahi Glass Company, Limited

JP

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Inventores

H. I. (pessoa física)

JP

H. H. (pessoa física)

JP

H. Y. (pessoa física)

JP

H. Y. (pessoa física)

JP

R. K. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2008-144519 · 02/06/2008

Resumo técnico

APARELHO DE DESGASEIFICAÃÃO A VÃCUO, APARELHO PARA PRODUZIR PRODUTOS DE VIDRO E PROCESSO PARA PRODUZIR PRODUTOS DE VIDRO. A presente invenção refere-se a um aparelho de desgaseificação a vácuo que tem um rendimento de pelo menos 200 ton/dia sem causar problemas tais como uma estagnação de fluxo de vidro fundido no percurso de fluxo de vidro fundido, um incremento de taxa de fluxo do fluxo de vidro fundido em uma área local, um incremento excessivo de perda de pressão do a fluxo de vidro fundido. Um aparelho de desgaseificação a vácuo compreende um recipiente de desgaseificação a vácuo, e um tubo ascendente e um tubo descendente os quais estão conectados com o recipiente de desgaseificação a vácuo, em que o recipiente de desgaseificação a vácuo inclui uma porção larga para prover um percurso de fluxo de vidro fundido, e na porção larga, a proporção W1/L1 da largura do percurso de fluxo de vidro fundido W1 para o comprimento do percurso de fluxo de vidro fundido L1 é pelo menos 0,2 e que dentro do recipiente de desgaseificação a vácuo, a largura do percurso de fluxo de vidro fundido W2 da porção conectada com o tubo ascendente e a largura do percurso de fluxo de vidro fundido W3 da porção conectada com o tubo descendente são mais estreitas do que a largura do percurso de fluxo de vidro fundido W1 na porção larga, e a posição do fundo do percurso de fluxo de vidro fundido da porção conectada com o tubo ascendente e a posição do fundo do percurso de fluxo de vidro fundido da porção conectada com o tubo descendente são mais baixas do que a posição do fundo do percurso de fluxo de vidro fundido da porção larga.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento - Art. 36 §1° da LPI

#11.2

Em face da não apresentação do cumprimento de exigência publicado na RPI n° 2500 de 04/12/2018, arquivo o pedido de patente conforme o disposto no art. 36 § 1° da LPI (Lei 9279 / 96) de 14/05/1996.Publique-se o Arquivamento (11.2).

26/03/2019

RPI 2516

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

04/12/2018

RPI 2500

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

17/04/2018

RPI 2467

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

03/11/2015

RPI 2339

Alteração de dados cadastrais

#1.1

30/08/2011

RPI 2121

Monitoramento de patentes

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