Dados do pedido
Número
PI0912048Tipo
Depósito
Publicação
PCT
DE2009000726 Patente concedida em 16/01/2018 e depois extinta em 16/07/2019. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/07/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Spawnt Private S.A.R.L.
LU
Inventores
C. B. (pessoa física)
DE
G. L. (pessoa física)
DE
N. A. (pessoa física)
DE
R. D. (pessoa física)
DE
S. M. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2008 025 261.1 · 27/05/2008
Resumo técnico
POLISSILANO HALOGENADO E PROCESSO PLASMA-QUÃMICO PARA SUA PREPARAÃÃOà descrito um polissilano halogenado (a seguir denominado polissilano) como composto puro ou mistura de compostos bem como um processo plasma-quÃmico para a preparação do mesmo. O polissilano é particularmente bem solúvel e fusÃvel e é caracterizado por significantes sinais de produto em modificações quÃmicas especiais em espectros 29Si-RMN. No processo para a preparação do polissilano halogenado trabalha-se com uma pequena fração de hidrogênio e um teor particularmente baixo de densidade de energia em relação à descarga do plasma. Com isto é possÃvel preparar um polissilano halogenado, o qual é particularmente bem solúvel.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2516 de 26-03-2019 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
16/07/2019
RPI 2532
#21.6
Referente à 10ª anuidade.
26/03/2019
RPI 2516
#16.1
16/01/2018
RPI 2454
#9.1
12/09/2017
RPI 2436
#1.3
05/01/2016
RPI 2348
#1.1
30/08/2011
RPI 2121
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