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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO PARA PRODUÇÃO DE VIDRO FUNDIDO E MÉTODO DE PRODUÇÃO DE VIDRO FUNDIDO EMPREGANDO O DISPOSITIVO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2009057074

Dados do pedido

Número

PI0911236

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

06/04/2009

Publicação

12/07/2016

PCT

JP2009057074

Andamento no INPI

  1. Depósito06/04/09
  2. Publicação12/07/16
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 22/05/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Asahi Glass Company LTD

JP

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Inventores

H. I. (pessoa física)

JP

H. H. (pessoa física)

JP

H. Y. (pessoa física)

JP

K. N. (pessoa física)

JP

T. N. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

JP

2008-099497 · 07/04/2008

Resumo técnico

DISPOSITIVO PARA PRODUÃÃO DE VIDRO FUNDIDO E MÃTODO DE PRODUÃÃO DE VIDRO FUNDIDO EMPREGANDO O DISPOSITIVO.A presente invenção refere-se a um dispositivo de produção de vidro fundido que realiza simultaneamente a produção de um produto de vidro de alta qualidade e economiza energia na produção de vidro fundido, um método de produção de vidro fundido que emprega um dispositivo de produção de vidro fundido e um método para produzir o produto de vidro. No dispositivo de produção de vidro fundido tendo um dispositivo de desgaseificação a vácuo, o tanque de fusão é fornecido com um meio de separação para separar essa área para circulação do vidro fundido no tanque de fusão em um fluxo de circulação para cima e um fluxo de circulação para baixo, a distância dos meios de separação até a extremidade posterior do caminho do fluxo do vidro fundido no tanque de fusão é de 0,1 LF a 0,45 LF onde LF representa o comprimento do caminho do fluxo de vidro fundido no tanque de fusão, uma porção larga é formada em uma primeira estrutura de conduíte em um lado anterior na direção do fluxo do vidro fundido, a largura da porção larga sendo maior que uma outra área da estrutura de conduíte e um meio para resfriar o vidro fundido que passa através da porção larga está disposto na porção larga.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2456 de 30-01-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

22/05/2018

RPI 2472

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 9ª anuidade.

30/01/2018

RPI 2456

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

12/07/2016

RPI 2375

Alteração de dados cadastrais

#1.1

29/11/2011

RPI 2134

Monitoramento de patentes

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