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Dado oficial do INPI

SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0906207

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

04/12/2009

Publicação

19/07/2011

Andamento no INPI

  1. Depósito04/12/09
  2. Publicação19/07/11
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Ecoplasma Tecnologia Aplicada e Participações Ltda

MG, BR

Inventores

E. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO. Campo desta Patente: - Tratamento de efluentes líquidos, de qualquer natureza, por plasma submerso. - Tratamento, por plasma submerso, de resíduos gasosos ou sólidos, de quaisquer naturezas, metálicos e não-metálicos, dissolvidos ou em suspensão em líquidos. O grande avanço inovador ao Estado da Técnica, trazido pelo objeto desta Patente é o desenvolvimento de um sistema capaz de promover a geração e a manutenção de um estado de plasma submerso nos líquidos a serem tratados e em contato direto com estes, onde o próprio meio é parte integrante do processo, configurando, assim, uma inovadora tecnologia capaz de tratar todos e quaisquer resíduos, sem exceções, que se apresentem em forma liquida, não necessariamente em meios aquosos, seja em solução ou em suspensão, aquosa ou não, e o tratamento é feito em uma única operação, sem necessidade de adição de produtos químicos auxiliares e sem o lançamento de gases na atmosfera, com segurança, economia e completa adequação e até superação dos parâmetros legais dos diversos termos das legislações de proteção ambiental vigentes. Os equipamentos que configuram o SISTEMA E DISPOSITIVOS PARA TRATAMENTO DE EFLUENTES LÍQUIDOS POR PLASMA SUBMERSO, constam basicamente de 3 componentes: 1. Primeiro componente - fonte de alimentação, AC/DC, com dispositivos de controle de tensão e corrente, 2. Segundo componente - grupo de geradores de radiações eletro-magnéticas, composto de geradores de micro-ondas, radiofreqúências, em potências e freqúéncias variadas, bem como, opcionalmente, geradores de feixes de laser e canhões de elétrons, 3. Terceiro componente - reator especifico, conforme descrito na Figura 1.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

24/09/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.

02/07/2019

RPI 2530

6.20

26/03/2019

RPI 2516

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

15/01/2019

RPI 2506

Publicação do pedido de patente

#3.1

19/07/2011

RPI 2115

Pedido de patente depositado

#2.1

19/10/2010

RPI 2076

Monitoramento de patentes

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