Concessão da patente
#16.1
26/03/2019
RPI 2516
Dados do pedido
Número
PI0901387Tipo
Depósito
Publicação
Patente concedida em 26/03/2019 e em vigor até 24/04/2029. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:24/04/2029
Última movimentação publicada pelo INPI: 26/03/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
UNIVERSIDADE ESTADUAL DE CAMPINAS - UNICAMP
SP, BR
Inventores
C. S. (pessoa física)
BR
E. O. (pessoa física)
BR
J. S. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
PROCESSO DE PRODUÇÃO DE SÍLICA VITREA E SÍLICA VITREA ASSIM OBTIDA. O presente pedido de patente de produto e processo para a produção de sílica vítrea, especialmente para componentes ópticos, principalmente lentes, utilizados em litografia óptica na região UV compreende o ajuste das condições de deposição e consolidação do método VAD ("Vapor-phase Axial Deposition") e, indiretamente, no ajuste da concentração de OH e da variação da temperatura da superfície de deposição da preforma sobre a qual as nanopartículas de sílica são depositadas. Através do presente método, a sílica vítrea é confeccionada com homogeneidade de índice de refração menor ou igual a 5 ppm, birrefringência menor ou igual a 2 nm/cm, transparência na região UV maior ou igual a 90% e resistência à irradiação do laser excimer sem a necessidade do tratamento de homogeneização, otimizando, portanto, o custo e o tempo de produção.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
26/03/2019
RPI 2516
#9.1
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A Classificação Anterior era: C03B 37/014
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