Dados do pedido
Número
PI0822520Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2008001967 Patente concedida em 21/05/2019 e depois extinta em 26/05/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/05/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Alytus Corporation S.A.
UY
Inventores
R. B. (pessoa física)
AR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
PCTEP2008001967 · 12/03/2008
Resumo técnico
SISTEMA DE PLASMASistema e técnica para deposição quÃmica a vapor assistida por plasma (PECVO) em que superfÃcies selecionadas de substratos tubulares podem ser tratadas pela deposição de filmes finos de um material desejado, em que um dos eletrodos empregados no sistema de plasma é formado pelo substrato ou peça, sem a necessidade de reatores de plasma volumosos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2870 de 06-01-2026 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
26/05/2026
RPI 2890
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
06/01/2026
RPI 2870
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 21/05/2019, observadas as condições legais
21/05/2019
RPI 2524
#9.1
30/04/2019
RPI 2521
#6.6.1
05/02/2019
RPI 2509
02/01/2019
RPI 2504
#1.3.1
Foi retificada a publicação 1.3 da RPI 2319 de 16/06/2015 em relação ao item (30) e [72] da mesma.
04/08/2015
RPI 2326
#1.3
16/06/2015
RPI 2319
#1.1
09/08/2011
RPI 2118
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Monitoramento de patentes
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