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Dado oficial do INPI

"MÉTODO DE GASEIFICAÇÃO SOB O SISTEMA INTEGRADO DE REFORMADOR E PIRÓLISE E APARELHAGEM DE GASEIFICAÇÃO"

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · KR2008004490

Dados do pedido

Número

PI0822456

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

01/08/2008

Publicação

16/06/2015

PCT

KR2008004490

Andamento no INPI

  1. Depósito01/08/08
  2. Publicação16/06/15
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 20/09/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

H. K. (pessoa física)

KR

Inventores

H. K. (pessoa física)

KR

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

KR

10-2008-0055035 · 12/06/2008

Resumo técnico

MÃTODO DE GASEIFICAÃÃO SOB O SISTEMA INTEGRADO DE REFORMADOR E PIRÃLISE E APARELHAGEM DE GASEIFICAÃÃO, a presente invenção está relacionada a um sistema de gaseificação no qual uma matéria-prima carbonada volumosa é pirolisada a baixa temperatura (600-1000°C) para produzir uma redução significativa em seu volume; os produtos da pirólise são transferidos para um reformador menor a 1200°C para realizar uma eficiente conversão em gases de síntese; o material carbonado constitui todas as formas de substâncias que contêm carbono e inclui combustíveis fósseis, biomassa, vegetação marinha, resíduos animais e resíduos orgânicos indústriais; a reação da pirólise entre 600 e 1000°C produz gases de combustão C1-C8 e resíduos sólidos de carvão e coques a .reação reformadora aqui é mais especificamenté definida como a reação do átomo de carbono com o vapor ou o gás do dióxido de carbono a 1200°C e sua reforma em gás CO e a redução de todos os átomos de hidrogênio em gás H2; é também denominada reação 20 de redução endotérmica. Independente dos estados físico e químico do carbono, ele reage com o vapor ou gás CO2 a 1200°C ou mais, é reformado tornando-se gases CO e H2, chamados gases de síntese; não é necessário catalisador. Para forçar essa reação de redução, a temperatura do 25 reformador deve ser mantida a 1200°C ou mais; ao fazê-lo, a fornalha do reformador luta com uma perda de calor substancial, e a perda de calor é tão grande quanto o tamanho do reformador; portanto, é aconselhável reduzir o volume de matéria-prima no reator de pirólise a baixa temperatura (600-1000ºC) e gaseificar os produtos de pirólise reduzidos em um reformador compacto; a pirólise reduz seu volume a menos de 1/10 da matéria-prima; o gás de combustão da pirólise flui continuamente; em especial, os gases de síntese do produto à temperatura de 1200ºC podem entrar na câmara de pirólise e manter a temperatura de 600-1000ºC em toda a câmara de pirólise e gases de síntese na câmara de pirólise com gás de combustão dos produtos retornam ao reformador; resíduos de carvão/coques produzidos na câmara de pirólise deslizam para dentrodo: reformador; tanto o gas de combustão quanto os resíduos de carvão são reformados e torna-se gases de sintese, o teor de calor necessario para a reação de redução é provido pela cãmara de oxidação do quaimador de gases de síntese no qual os gases de sintese são quaimados com gás 02 e produzem um vapor bastante quente e gás co2,e esses gases quentes (1800-2000ºC) entram no reformador e mantêm sua temperatura a pelo menos 1200ºC; o produto do reformador, gases de síntese saem a 1200ºC para a câmara de pirólise e mantêm sua temperatura entre 600 e 1000ºC. No presente sistema, não há entrada de gás O, na câmara de pirólise nem no reformador;não há também combustão (reação de oxidação) de matériaprima em nenhum lugar no sistema.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2337 de 20-10-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

20/09/2016

RPI 2385

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 7ª anuidade.

20/10/2015

RPI 2337

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/06/2015

RPI 2319

Alteração de dados cadastrais

#1.1

23/08/2011

RPI 2120

Monitoramento de patentes

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