Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
26/07/2016
RPI 2377
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Dado oficial do INPI
DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO E RESPECTIVO MÉTODO DE FABRICO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2008081373
Dados do pedido
Número
PI0819248Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/10/2008
Publicação
27/10/2015
PCT
US2008081373 Andamento no INPI
- Depósito27/10/08
- Publicação27/10/15
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/10/2008, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 26/07/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Qualcomm Mems Technologies, Inc.
US
Inventores
K. K. (pessoa física)
US
M. K. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
08153689.8 · 31/03/2008
US
11/950,392 · 04/12/2007
US
61/002,198 · 07/11/2007
Resumo técnico
DISPOSITIVO FOTOVOLTAICO E RESPECTIVO MÃTODO DE FABRICO. à revelada uma máscara interferométrica 300 que cobre os elétrodos dianteiros 910, 911 de um dispositivo fotovoltaico 900. Essa máscara interferométrica 300 pode reduzir reflexões da luz incidente a partir dos elétrodos 910, 911. Em várias modalidades, a máscara reduzas reflexões de forma que um elétrodo diante iro 910, 911 padrão parece de cor semelhante para regiões adjacentes do material fotovoltaico ativo visÃvel.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
05/04/2016
RPI 2361
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
27/10/2015
RPI 2338
Alteração de dados cadastrais
#1.1
23/08/2011
RPI 2120
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