Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 18ª anuidade.
25/08/2026
RPI 2903
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Dado oficial do INPI
MÉTODO PARA O TRATAMENTO DE PLASMA DE SUBSTRATOS METÁLICOS OU ISOLANTES, E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS METÁLICOS OU ISOLANTES POR PLASMA
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2008063354 Documento oficial disponível
Dados do pedido
Número
PI0818025Tipo
Patente de Invenção
Depósito
06/10/2008
Publicação
24/03/2015
PCT
EP2008063354 Carta-patente disponível
Temos o documento oficial completo deste processo, publicado pelo INPI.
Acessar documentoAndamento no INPI
- Depósito06/10/08
- Publicação24/03/15
- Exame
- Deferimento29/10/19
- Concessão03/12/19
- Extinto25/08/26
Patente concedida em 03/12/2019 e depois extinta em 25/08/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/08/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
ADVANCED GALVANISATION AG
CH
INDUSTRIAL PLASMA SERVICES & TECHNOLOGIES - IPST GMBH
CH
NEOVAC GMBH
DE
Inventores
P. V. (pessoa física)
CH
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
07119011.0 · 22/10/2007
Resumo técnico
MÃTODO PARA O TRATAMENTO DE PLASMA DE SUBSTRATOS METÃLICOS OU ISOLANTES, E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO DE SUBSTRATOS METÃLICOS OU ISOLANTES POR PLASMA. A invenção está relacionada a um método e um dispositivo para o tratamento por plasma de substratos metálicos ou substratos isolantes (3) que transitam de forma substancialmente contÃnua ao longo da extensão de um câmara de vácuo que possui uma zona de tratamento (2), o plasma sendo mantido por acoplamento indutivo de radiofreqüência na zona de tratamento (2) por meio de um indutor (4) conectado a um gerador de radiofreqüência, em que o indutor (4) está protegido de qualquer contaminação pelo material elétrico emitido pela superfÃcie dos substratos (3) por meio de uma gaiola de Faraday (7), que está posicionada entre o plasma e o indutor (4), e em que a gaiola de Faraday (7) é em média eletricamente induzida positivamente com respeito aos substratos (3) ou com respeito a um contra-eletrodo presente no plasma.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
06/09/2022
RPI 2696
Alteração de sede deferida
#25.7
23/08/2022
RPI 2694
Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 03/12/2019, observadas as condições legais
03/12/2019
RPI 2552
Deferimento
#9.1
29/10/2019
RPI 2547
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
21/05/2019
RPI 2524
Notificação de acesso ao patrimônio genético
#6.6.1
22/01/2019
RPI 2507
6.20
15/01/2019
RPI 2506
Transferência deferida
#25.1
12/09/2017
RPI 2436
Transferência em exigência
#25.3
A fim de atender a transferência, requerida através da petição nº 870160063439 de 28/10/2016, é necessário apresentar a tradução juramentada do documento de cessão.
18/04/2017
RPI 2415
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
24/03/2015
RPI 2307
Alteração de dados cadastrais
#1.1
23/08/2011
RPI 2120
Monitoramento de patentes
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