Patente de InvençãoPI0816272
S. C. (pessoa física)+1
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2018. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Resumo técnico
MÃTODO, SISTEMA DE CONTROLE, E EQUIPAMENTO PARA VALORIZAR GÃS NATURAL LIQUEFEITOUm método para vaporização de gás natural liquefeito inclui passar o gás natural liquefeito atra-vés de um vaporizador de combustão submerso tendo um banho de água em uma temperatura de banho e um queimador para prover uma saÃda de gás vaporizado a uma temperatura de emis-são, retirar a água do banho do vaporizador de combustão submerso e alimentar o mesmo a uma torre de aquecimento atmosférica, tendo uma temperatura de ar ambiente, retornar a água prove-niente da torre de aquecimento atmosférica para o banho do vaporizador de combustão submer-so, modular a taxa de operação do queimador do vaporizador de combustão submersa, e modular a taxa de operação da torre de aquecimento atmosférica.
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
11/851,831 · 07/09/2007
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
23/10/2018
RPI 2494
8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2476 de 19-06-2018 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
19/06/2018
RPI 2476
8.6
Referente à 10ª anuidade.
31/10/2017
RPI 2443
1.3
27/06/2017
RPI 2425
Petição nº 870170036211 de 30/05/2017 desconhecida com base no art. 219, inciso II da LPI, pois o ato foi praticado por procurador não previsto nas procurações apresentadas "Ricardo Pernold Vieira de Mello". Cabe salientar que o prazo para resposta da exigência formulada ainda não se encerrou.
09/05/2017
RPI 2418
1.5
Solicita-se a regularização da procuração do depositante "SPX Cooling Technologies, Inc", umavez que a procuração apresentada não possui data.
23/08/2011
RPI 2120
1.1
