Dados do pedido
Número
PI0811241Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2008054851 Patente concedida em 25/06/2019 e depois extinta em 04/06/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 04/06/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG., PFÄFFIKON
CH
OERLIKON SURFACE SOLUTIONS AG., TRÜBBACH
CH
OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH
CH
Inventores
B. H. (pessoa física)
CH
B. W. (pessoa física)
CH
J. R. (pessoa física)
CH
M. P. (pessoa física)
CH
O. M. (pessoa física)
LI
S. K. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CH
00843/07 · 25/05/2007
Resumo técnico
INSTALAÃÃO E MÃTODO DE TRATAMENTO A VÃCUO E MÃTODO DE TRATAMENTO A VÃCUO.A presente invenção refere-se a uma unidade de tratamento a vácuo e a um processo de tratamento a vácuo para realizar um processo de plasma, em que o tratamento é realizado em uma câmara de vácuo (1) na qual estão dispostos um aparelho para produzir uma descarga de arco voltaico de voltagem baixa (15) (LVDA), compreendendo um catodo (10) e um anodo (13) que podem ser conectados eletricamente ao catodo por via um gerador de arco voltaico (11), e um suporte de peça a trabalhar (7) para acomodar e mover as peças a trabalhar (2) que podem ser eletricamente conectadas em um gerador de polarização (16) e também pelo menos um tubo de alimentação (8) para gás inerte e/ou reativo. Aqui, pelo menos parte da superfÃcie do anodo (13) é feita de grafite e é operada em temperatura alta.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2771 de 15-02-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
04/06/2024
RPI 2787
#21.6
Referente à 16ª anuidade.
15/02/2024
RPI 2771
#25.7
27/02/2020
RPI 2564
#25.4
04/02/2020
RPI 2561
#25.4
14/01/2020
RPI 2558
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 25/06/2019, observadas as condições legais
25/06/2019
RPI 2529
#9.1
09/04/2019
RPI 2518
#6.1
21/11/2018
RPI 2498
O depositante deve responder a exigência formulada neste parecer em até 60 (sessenta) dias, a partir da data de publicação na RPI, sob pena do arquivamento do pedido, de acordo com o artigo 34, inciso II, da LPI, por meio do serviço de código 206. Publique-se a Exigência (6.20).
24/07/2018
RPI 2481
#6.6.1
17/04/2018
RPI 2467
#25.7
23/02/2016
RPI 2355
#1.3
04/11/2014
RPI 2287
#1.1
23/08/2011
RPI 2120
Do mesmo titular
Da mesma categoria
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.