Adição na publicação
#15.35
12/07/2022
RPI 2688
Dados do pedido
Número
PI0810227Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2008060605 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 12/07/2022. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
SIEMENS INDUSTRY, INC.
US
SIEMENS WATER TECHNOLOGIES HOLDING CORP.
US
Inventores
J. A. (pessoa física)
US
J. G. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
11/767,438 · 22/06/2007
US
60/912,548 · 18/04/2007
Resumo técnico
TRATAMENTO DE ÃGUA COM BAIXO POTENCIAL DE INCRUSTAÃÃO. A presente invenção refere-se a um dispositivo de tratamento eletroquÃmico que tem baixo potencial de incrustação. O dispositivo tem uma variedade de configurações direcionadas para a disposição em camadas das trocas aniônicas e das trocas catiônicas. O dispositivo de tratamento também pode compreender partÃculas de resina de troca de Ãons de tamanhos desiguais e/ou ter pelo menos um compartimento que forneça uma resistência dominante que resulte em uma distribuição de corrente uniforme por todo o aparelho.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#15.35
12/07/2022
RPI 2688
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2329 de 25-08-2015 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
10/05/2016
RPI 2366
#25.1
17/11/2015
RPI 2341
#8.6
Referente às 6ª e 7ª anuidades.
25/08/2015
RPI 2329
#1.3
29/10/2014
RPI 2286
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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