Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
01/09/2015
RPI 2330
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA PREPARAR UM 1,3-DIALQUILOXI-2-PROPANOL E COMPOSIÇÃO TENSOATIVA
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · US2008061362
Dados do pedido
Número
PI0809769Tipo
Patente de Invenção
Depósito
24/04/2008
Publicação
10/02/2015
PCT
US2008061362 Andamento no INPI
- Depósito24/04/08
- Publicação10/02/15
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 24/04/2008, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 01/09/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Dow Global Technologies Inc
US
Inventores
C. B. (pessoa física)
NL
C. D. (pessoa física)
US
J. T. (pessoa física)
BE
P. V. (pessoa física)
US
T. M. (pessoa física)
CH
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/926,630 · 27/04/2007
Resumo técnico
PROCESSO PARA PREPARAR UM 1,3-DIALQUILOXI-2-PROPANOL E COMPOSIÃÃO TENSOATIVA.Novos 1, 3-dialguiloxi-2-propanol e alcoxilatos dos mesmos podem ser preparados em bom rendimento por um processo conveniente compreendendo adicionar epiclorohidrina a um excesso estequiométrico de álcool, sendo que a razão de álcool:epiclorohidrina é pelo menos cerca de 3:1, preferivelmente na presença de um hidróxido de metal do Grupo 1A e um catalisador de transferência de fase. O resultado mostra excelente seletividade para as posições de substituição 1,3, e a cadeia alquila pode ser saturada ou insaturada e pode conter um ou mais heteroátomos. Os alcoxilatos podem incluir unidades alcoxi repetidas na posição 2. As composições são úteis como tensoativos, diluentes, e similares.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
02/06/2015
RPI 2317
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
10/02/2015
RPI 2301
Alteração de dados cadastrais
#1.1
23/08/2011
RPI 2120
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