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Dado oficial do INPI

DISPOSITIVO DE DISTRIBUIÇÃO DE LÍQUIDO-VAPOR, VASOS DE FLUXO DESCENDENTE CONVERGENTE DE CORRENTE DE DUAS FASES, E, REATOR

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0806653

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/12/2008

Publicação

13/03/2012

Andamento no INPI

  1. Depósito10/12/08
  2. Publicação13/03/12
  3. Exame
  4. Deferimento02/05/18
  5. Concessão26/06/18
  6. Em vigor10/12/28

Patente concedida em 26/06/2018 e em vigor até 10/12/2028. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:10/12/2028

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Depositantes e inventores

Depositantes

HALDOR TOPSOE A/S

DK

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Inventores

K. J. (pessoa física)

DK

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

DK

PA2008 00029 · 09/01/2008

Resumo técnico

DISPOSITIVO DE DISTRIBUIÇÃO DE LÍQUIDO-VAPOR, VASOS DE FLUXO DESCENDENTE CONVERGENTE DE CORRENTE DE DUAS FASES, E, REATOR. Um dispositivo de distribuição de líquido-vapor para uso em vasos de fluxo descendente convergente de corrente de duas fases compreendendo: uma pluralidade de BOXVLTs fabricados na forma de estruturas de auto-suporte (travessas) e painéis de bandeja quando instalados formam uma bandeja que será essencialmente livre de vazamentos nas junções e entre a bandeja e a parede do vaso; referida estrutura de auto-suporte horizontal consistindo de uma placa de fundo sendo perfurada com, pelo menos, uma fileira de aberturas de tamanho igual, em que cada abertura é equipada com um canal alongado de fluxo descendente (tubo de descida) estando na forma de um tubo ou qualquer outra forma geométrica com a mesma forma de seção transversal geométrica como as aberturas na referida travessa e o canal de fluxo descendente é provido com uma entrada para a corrente convergente de duas fases, e em que pelo menos dois dos referidos canais de fluxo descendente são equipados com uma cobertura da coluna de ascensão sendo fixada em e ao longo de pelo menos uma porção de parede de cada canal de fluxo descendente e montada sobre e distanciada da entrada do canal de fluxo descendente.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

26/06/2018

RPI 2477

Deferimento

#9.1

02/05/2018

RPI 2469

Exigência - art. 36 da LPI

#6.1

23/01/2018

RPI 2455

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/03/2012

RPI 2149

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.

09/08/2011

RPI 2118

Pedido de patente depositado

#2.1

06/10/2009

RPI 2022

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