APARELHO PARA FORMAÇÃO CONTÍNUA DE FILME

Classificação IPC

Prioridades unionistas

Resumo técnico

APARELHO PARA FORMAÇÃO CONTINUA DE FILME O aparelho de CVD com plasma da presente invenção compreende um par de cilindros de deposição (2 e 3) dispostos de forma oposta em paralelo de maneira que os subs- tratos (S) ali bobinados fiquem voltados um para o outro; um elemento gerador de campo magnético (12 e 13) fornecido no interior de cada um dos cilindros de deposição (2 e 3), que gera um campo magnético para convergir plasma para as vizinhanças da superfície de um cilindro deste voltada para um espaço (5) entre os cilindros de deposição; uma fonte de alimentação de plasma (14) com polaridade alternadamente invertida entre um eletrodo e o outro eletrodo; um tubo de suprimento de gás (8) para suprir um gás de formação de filme no espaço (5); e meio de evacuação para evacuar o espaço. Um eletrodo da fonte de alimentação de plasma (14) é conectado em um cilindro de deposição (2), e o outro eletrodo desta no outro cilindro de deposição (3).