Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
19/03/2019
RPI 2515
Dados do pedido
Número
PI0805522Tipo
Depósito
Publicação
Pedido indeferido em 19/03/2019 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 19/03/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Itajara Minérios Ltda
PR, BR
Inventores
C. P. (pessoa física)
BR
J. K. (pessoa física)
BR
S. C. (pessoa física)
BR
S. T. (pessoa física)
BR
S. F. (pessoa física)
BR
S. P. (pessoa física)
BR
Classificação IPC
Resumo técnico
METODO DE PRODUÇÃO DE PÓ DE NANOESCALA POR SÍNTESE DE VAPOR constitui-se em um sistema de reator térmico capaz de produzir pós em nanoescala por processo de síntese em fase de vapor a alta temperatura através de simples aspersão ou dispersão. Uma suspensão gasosa do material precursor que atravessa um reator térmico continuamente alimentado é transferido, via processo mecânico, para uma câmera de armazenamento que, em solução dispergente é captado e armazenado sob condições que minimizam o superaquecimento e, em seguida, a solução é arremessada para fora do sistema. Outro aspecto da invenção consiste na injeção contínua de atmosfera de gás para favorecimento da oxidação, neutralização ou redução dos íons precursores e dissipação da nucleação das nanopartículas. Desta forma, toma-se possível obter-se nanopartículas de: óxidos inorgânicos, sistemas dopados, cerâmicas, metais, ligas, compósitos e possíveis combinações entre os elementos químicos existentes através de um processo limpo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL
19/03/2019
RPI 2515
#9.2
02/01/2019
RPI 2504
#15.11
As Classificações Anteriores eram: C01B 13/34 , B82B 3/00
11/09/2018
RPI 2488
#7.1
04/09/2018
RPI 2487
#6.6.1
17/04/2018
RPI 2467
#3.1
08/09/2010
RPI 2070
#2.1
19/05/2009
RPI 2002
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