Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 24/04/2019, observadas as condições legais
24/04/2019
RPI 2520
Dados do pedido
Número
PI0803100Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2008064344 Patente concedida em 24/04/2019 e em vigor até 21/05/2028. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:21/05/2028
Última movimentação publicada pelo INPI: 24/04/2019. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Southwest Research Institute
US
Inventores
C. R. (pessoa física)
US
J. A. (pessoa física)
US
R. W. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
11/752,787 · 23/05/2007
Resumo técnico
PROCESSAMENTO DE ÍONS DE IMERSÃO DE PLASMA PARA REVESTIMENTO DE SUBSTRATOS OCOS. A revelação presente refere-se a um aparelho e método para deposição de íons de plasma e formação de revestimento. Uma câmara de vácuo pode ser provida formada por um substrato oco tendo um comprimento, diâmetro e superfície interior. Um plasma pode ser formado dentro da câmara enquanto aplicando uma polarização negativa ao substrato oco para atrair os íons do plasma para a superfície interior do substrato oco para depositar os íons sobre a superfície interior e formando um revestimento. O revestimento pode ter um Valor de Dureza Vickers (Hv) de pelo menos 500.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 24/04/2019, observadas as condições legais
24/04/2019
RPI 2520
#9.1
26/02/2019
RPI 2512
#7.1
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RPI 2489
#7.1
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#7.1
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