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Dado oficial do INPI

MICROPLASMAS EXCITADOS POR DESCARGAS ELÉTRICAS DE RÁDIO-FREQÜÊNCIA EM PRESSÃO ATMOSFÉRICA E SEU PROCESSO DE GERAÇÃO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0802583

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/07/2008

Publicação

09/03/2010

Andamento no INPI

  1. Depósito10/07/08
  2. Publicação09/03/10
  3. Exame
  4. Deferimento18/02/20
  5. Concessão07/04/20
  6. Em vigor10/07/28

Patente concedida em 07/04/2020 e em vigor até 10/07/2028. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:10/07/2028

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/04/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

INSTITUTO TECNOLÓGICO DE AERONÁUTICA - ITA

SP, BR

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Inventores

C. F. (pessoa física)

BR

J. F. (pessoa física)

BR

J. C. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

MICROPLASMAS EXCITADOS POR DESCARGAS ELÉTRICAS DE RÁDIO-FREQÜÊNCIA EM PRESSÃO ATMOSFÉRICA E SEU PROCESSO DE GERAÇÃO. A presente invenção refere-se a microplasmas (6) excitados por ondas eletromagnéticas produzidas a partir de um gerador compacto de rádio-freqüência (gerador-RF) na faixa de freqUência de 144-146 MHz, operando entre 5W e 50W de potência (1), e seu respectivo processo de geração que é baseado em um circuito elétrico no qual um filtro acoplador de impedância do tipo-L (3) está conectado a eletrodos de estrutura coaxial (11 e 12), separados por um composto cerâmico (10), entre os quais se formam os campos elétricos associados com o mecanismo de ruptura dielétrica de uma mistura gasosa contendo um gás inerte e outro gás reativo, para a criação dos microplasmas. O fluxo da mistura gasosa (4) atravessa o eletrodo interno (12) do circuito elétrico utilizado no processo. Por fim, os microplasmas produzidos pelo processo da presente invenção são caracterizados por apresentar: portabilidade; tensões que variam entre 100V e 450V; correntes elétricas entre 0,9A e 3,5A; temperaturas medidas que variam de 350K a 3000K; e densidades eletrônicas observadas entre 0,1 x 1015 e 1,4 x 1015 elétrons por centímetro cúbico.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 07/04/2020, observadas as condições legais

07/04/2020

RPI 2570

Deferimento

#9.1

18/02/2020

RPI 2563

Conhecimento de parecer técnico

#7.1

18/06/2019

RPI 2528

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

29/01/2019

RPI 2508

Publicação do pedido de patente

#3.1

09/03/2010

RPI 2044

Pedido de patente depositado

#2.1

02/12/2008

RPI 1978

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