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Dado oficial do INPI

BASE REFRATÁRIA PARA VAGÃO PLATAFORMA

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0800019

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

10/01/2008

Publicação

01/09/2009

Andamento no INPI

  1. Depósito10/01/08
  2. Publicação01/09/09
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 13/11/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

C. N. (pessoa física)

RJ, BR

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Inventores

J. V. (pessoa física)

BR

W. S. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

Base refratária para vagão plataforma. Refere-se o presente pedido de patente a uma base refratária com a função de reter calor, ou seja, sua transmissão para o vagão plataforma, evitando assim a deformação do vagão plataforma, e das placas de aço, que são colocadas sobre este vagão. Como apresentado na figura 1, é fixada por solda no vagão ( 1 ) , e é constituída de barras transversais ( 2 ), que servem de sustentação para as placas; cabeceiras ( 3 ) , que delimitam o comprimento da caixa refratária (4 ); caixa refratária (4 ), que retém a temperatura das placas, reduzindo em cerca de 700%, a transmissão de calor para a estrutura do vagão ( 1 ), como já dito neste relatório, evitando a deformação do assoalho do vagão plataforma e longarina como um todo, e consequentemente da placa, eliminando assim os prejuízos, no que refere ao equipamento e ao produto ( placa ), pois com a não deformação do vagão ,as placas também são transportadas sem nenhuma deformação.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente às 3ª e 4ª anuidades.

13/11/2012

RPI 2184

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 3ª e 4ª anuidades.

05/06/2012

RPI 2161

Publicação do pedido de patente

#3.1

01/09/2009

RPI 2017

Pedido de patente depositado

#2.1

06/02/2008

RPI 1935

Monitoramento de patentes

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