Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
01/10/2013
RPI 2230
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA REMOVER MONÔMEROS RESIDUAIS DE HOMOPOLÍMERO OU COPOLÍMERO DE POLIOXIMETILENO
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · EP2007060259
Dados do pedido
Número
PI0713655Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/09/2007
Publicação
23/10/2012
PCT
EP2007060259 Andamento no INPI
- Depósito27/09/07
- Publicação23/10/12
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/09/2007, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 01/10/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
B. S. (pessoa física)
DE
Inventores
A. S. (pessoa física)
DE
C. E. (pessoa física)
DE
C. S. (pessoa física)
BE
J. A. (pessoa física)
DE
R. A. (pessoa física)
DE
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
EP
06121620.6 · 02/10/2006
Resumo técnico
PROCESSO PARA REMOVER MONÔMEROS RESIDUAIS DO HOMOPOLÍMERO OU COPOLÍMERO DE POLIOXIMETILENO. É proposto um processo para remover monômeros residuais de homopolímeros ou copolímeros de polioximetileno com o uso de um campo eletromagnético de alta frequência, compreendendo as seguintes etapas de processo: a) prover um banho de base do homopolímero ou copolímero de polioximetileno em uma temperatura de 140 a 270ºC e em uma pressão de 1 a 100 bar, b) transferir o banho de base do homopolímero ou copolímero de polioximetileno fornecida na etapa a) do processo em uma linha de alimentação na pressão da etapa a) do processo para desgaseificação c) em uma pressão menor do que a pressão na etapa a) do processo, caracterizado em que o banho de base do homopolímero ou copolímero de polioximetileno é submetida as campo eletromagnético de alta frequência na etapa b) do processo, na etapa c) do processo, ou nas etapas b) e c) do processo, em que ela é aquecida ou em que o seu resfriamento é impedido.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
02/07/2013
RPI 2217
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
23/10/2012
RPI 2181
Alteração de dados cadastrais
#1.1
09/08/2011
RPI 2118
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