Extinção para fins de restauração (art. 87)
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
02/06/2026
RPI 2891
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Dado oficial do INPI
COMPOSTOS POSS-METAL PARA A FABRICAÇÃO DE POLIMEROS DE POLICONDENSAÇÃO
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2007057440
Dados do pedido
Número
PI0713175Tipo
Patente de Invenção
Depósito
18/07/2007
Publicação
20/03/2012
PCT
EP2007057440 Andamento no INPI
- Depósito18/07/07
- Publicação20/03/12
- Exame
- Deferimento24/04/18
- Concessão10/07/18
- Extinto02/06/26
Patente concedida em 10/07/2018 e depois extinta em 02/06/2026. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/06/2026. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
COBARR S.P.A.
IT
COBARR S.R.L.
IT
CORPUS CHRISTI POLYMERS LLC
US
M&G USA CORPORATION
US
Inventores
H. A. (pessoa física)
NL
H. G. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/807,625 · 18/07/2006
Resumo técnico
COMPOSTOS POSS-METAL PARA A FABRICAÇÃO DE POLÍMEROS DE POLICONDENSAÇÃO. O presente invento descreve o uso de silsesquioxanos de metal derivados do produto de reação de silsesquloxano trisilanÓis de fórmula R~ 7~Si~ 7~O~ 9~(OH)~ 3~, em que R pode ser isobutila ou fenila, com um alcóxido de metal para a catálise de polímeros de poticondensação, tais como poli(tereftalato de etileno).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Transferência deferida
#25.1
12/05/2020
RPI 2575
Concessão da patente
#16.1
10/07/2018
RPI 2479
Republicação - titular
#25.11
Retificado o despacho 25.1 publicado na RPI 2433 de 22/08/2017 sob o item (71).
03/07/2018
RPI 2478
Deferimento
#9.1
24/04/2018
RPI 2468
Exigência - art. 36 da LPI
#6.1
12/12/2017
RPI 2449
Transferência deferida
#25.1
22/08/2017
RPI 2433
Alteração de nome deferida
#25.4
14/02/2017
RPI 2406
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
20/03/2012
RPI 2150
Alteração de dados cadastrais
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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