Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2230 de 01/10/2013.
18/02/2014
RPI 2250
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Dado oficial do INPI
COMPOSIÇÕES DETERGENTES LÍQUIDAS COM POLÍMEROS À BASE DE ÁCIDO POLIACRÍLICO DE BAXIA POLIDISPERCIDADE
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2007071441
Dados do pedido
Número
PI0712934Tipo
Patente de Invenção
Depósito
18/06/2007
Publicação
26/03/2013
PCT
US2007071441 Andamento no INPI
- Depósito18/06/07
- Publicação26/03/13
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
The Procter & Gamble Company
US
Inventores
J. D. (pessoa física)
US
K. P. (pessoa física)
US
R. G. (pessoa física)
US
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/814,938 · 19/06/2006
Resumo técnico
COMPOSIÇÕES DETERGENTES LÍQUIDAS COM POLÍMEROS À BASE DE ÁCIDO POLIACRÍLICO DE BAIXA POLIDISPERSIDADE. A presente invenção refere-se a composições detergentes líquidas que compreendem um polímero que compreende monômeros de ácido policrílico que têm um baixo peso molecular numérico médio, na faixa de cerca de 1.000 am a cerca de 10.000 am u, e uma polidispersidade muito baixa, menor que cerca de 5, sendo que o detergente líquido compreende menos que cerca de 50% de qualquer solvente aminofuncional. A invenção refere-se também a composições detergentes líquidas que compreendem misturas benéficas de baixo peso molecular, polímeros à base de ácido policrílico com polidispersidade muito baixa com polímeros específicos.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente 6a. anuidade(s).
01/10/2013
RPI 2230
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
26/03/2013
RPI 2203
Alteração de dados cadastrais
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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