Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
Dados do pedido
Número
PI0712624Tipo
Depósito
Publicação
PCT
IT2007000621 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/09/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
KIIAN S.P.A.
IT
Inventores
A. L. (pessoa física)
IT
F. F. (pessoa física)
IT
M. G. (pessoa física)
IT
V. B. (pessoa física)
IT
Classificação IPC
Resumo técnico
COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL TENDO UM COMPONENTE DE EMULSÃO E UM COMPONENTE SENSIBILIZADOR, PROCESSO PARA A PREPARAÇÃO DE UMA COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL E USO DE UMA COMPOSIÇÃO FOTOSSENSÍVEL. Uma composição fotossensível inclui poli (álcool vinílico) (PVA), uma ou mais resinas sintéticas, pelo menos um agente reticulador para o PVA, e um componente sensibilizador, pelo menos um agente gelificante e pelo menos um composto orgânico fotossensível escolhido de sais de diazônio. A composição é adequada para a produção de cilindros de impressão rotativa, em particular no campo têxtil.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
06/05/2014
RPI 2261
#1.3
16/10/2012
RPI 2180
#1.1
09/08/2011
RPI 2118
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