Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2291 de 02/12/2014.
14/04/2015
RPI 2310
Dados do pedido
Número
PI0707661Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2007002655 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
Lutron Electronics CO, INC
US
Inventores
M. T. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Resumo técnico
BALASTROS ELETRÔNICOS PARA ACIONAR LÂMPADA DE DESCARGA DE GÁS E CIRCUITO E MÉTODO DE CONTROLE DOS MESMOS. Um balastro eletrônico para direcionar uma lâmpada de descarga de gás evita bombeamento de mercúrio na lâmpada por mudança de modo adaptado de uma frequência operacional de um inversor do balastro quando opera próximo da extremidade elevada, O inversor do balastro gera uma voltagem AC de frequência elevada, que é caracterizada pela frequência operacional e um ciclo de serviço operacional. O balastro também compreende um tanque ressonante para copiar a voltagem AC de frequência elevada à lâmpada para gerar uma corrente de lâmpada presente através da lâmpada e um circuito de sentido de corrente para determinar a magnitude da corrente de lâmpada presente. Um circuito híbrido de controle analógico/digital controla tanto a frequência operacional como o ciclo de serviço operacional do inversor com técnicas de laço fechado, O circuito de controle ajusta o ciclo de serviço do inversor em resposta a uma corrente de lâmpada alvo e a corrente de lâmpada presente. Para evitar o bombeamento do mercúrio, o circuito de controle tenta maximizar o ciclo de serviço do inversor quando operando na extremidade elevada. Especificamente, o circuito de controle ajusta a frequencia operacional do inversor em resposta ao sinal de corrente de lâmpada alvo, o ciclo de serviço do inversor e um ciclo de serviço alvo, a fim de dirigir o ciclo de serviço operacional para o ciclo de serviço alvo.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2291 de 02/12/2014.
14/04/2015
RPI 2310
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
02/12/2014
RPI 2291
#1.3
10/05/2011
RPI 2105
Monitoramento de patentes
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