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Dado oficial do INPI

VÁLVULA GAVETA DE INJEÇÃO QUÍMICA SUBMARINA COMPENSADA POR PRESSÃO

ConcedidaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0704239

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

19/11/2007

Publicação

15/07/2008

Andamento no INPI

  1. Depósito19/11/07
  2. Publicação15/07/08
  3. Exame
  4. Deferimento03/03/20
  5. Concessão14/04/20
  6. Em vigor19/11/27

Patente concedida em 14/04/2020 e em vigor até 19/11/2027. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.

Proteção válida até:19/11/2027

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Última movimentação publicada pelo INPI: 14/04/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

National Coupling Company INC.

US

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Inventores

R. W. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

11/561,584 · 20/11/2006

Resumo técnico

VÁLVULA DE INJEÇÃO QUÍMICA SUBMARINA COMPENSADA POR PRESSÃO Uma válvula protegida contra retro pressão, adequada para aplicações de injeção química para tratamento de poços submarinos inclui uma válvula gaveta aperfeiçoada, uma válvula de retenção e um compensador de pressão que reage á pressão hidrostática ambiente. A válvula de retenção pode consistir de uma válvula de elevação em um corpo de saída separável. O compensador de pressão consiste de um pistão móvel em um cilindro. A parte do cilindro sobre um lado do pistão está exposta à água do mar, enquanto a parte do cilindro no lado oposto do pistão é preenchida com um fluido hidráulico selecionado. Dessa forma, o acionador da válvula não fica exposto aos efeitos corrosivos e/ou de contaminação da água do mar.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Concessão da patente

#16.1

10 (dez) anos contados a partir de 14/04/2020, observadas as condições legais

14/04/2020

RPI 2571

Deferimento

#9.1

03/03/2020

RPI 2565

Exigência preliminar

#6.21

08/10/2019

RPI 2544

Notificação de acesso ao patrimônio genético

#6.6.1

29/01/2019

RPI 2508

Publicação do pedido de patente

#3.1

15/07/2008

RPI 1958

Pedido de patente depositado

#2.1

26/12/2007

RPI 1929

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