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Dado oficial do INPI

PROCESSO TOLERANTE A ALTO TEOR DE ÁGUA PARA A PRODUÇÃO DE POLIÉTERES

Arquivada/ExtintaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0703117

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

18/07/2007

Publicação

04/03/2008

Andamento no INPI

  1. Depósito18/07/07
  2. Publicação04/03/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/09/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

BAYER MATERIALSCIENCE LLC

US

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Inventores

E. B. (pessoa física)

US

J. I. (pessoa física)

US

J. P. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

11/490,303 · 20/07/2006

Resumo técnico

PROCESSO TOLERANTE A ALTO TEOR DE ÁGUA PARA A PRODUÇÃO DE POLIÉTERES. A presente invenção refere-se a um processo para a produção de um poliéter envolvendo estabelecer condições de oxialquilação em um reator de oxialquilação na presença de cerca de 5 ppm a cerca de 1.000 ppm, com base no peso final do poliéter de um catalisador de cianeto de metal duplo (DMC), introduzir continuamente no reator pelo menos um óxido de alquileno e um iniciador de baixo peso molecular tendo um peso molecular médio numérico de menos que cerca de 300 dáltons (Da) contendo cerca de 200 ppm a cerca de 5.000 ppm de água e acidificado com cerca de 10 ppm a cerca de 2.000 ppm de pelo menos um de um ácido mineral prático inorgânico e um ácido orgânico, e recuperar um produto de poliéter tendo um peso molecular médio numérico de cerca de 200 Da a cerca de 4.000 Da, em que as ppm (partes por milhão) de água e ácido são baseadas no peso do iniciador de baixo peso molecular. O processo inventivo pode possibilitar o uso de iniciadores de baixo peso molecular contendo níveis mais altos de água em níveis mais baixos de catalisador DMC que os processos correntes.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2420 de 23-05-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

05/09/2017

RPI 2435

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 10ª anuidade.

23/05/2017

RPI 2420

Retificação de publicação

#3.8

Referente ao despacho publicado na RPI nº 1939 de 04/03/2008 quanto ao item (72).

11/10/2011

RPI 2127

Publicação do pedido de patente

#3.1

04/03/2008

RPI 1939

Pedido de patente depositado

#2.1

30/10/2007

RPI 1921

Monitoramento de patentes

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