Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
16/11/2011
RPI 2132
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE MATERIAL COMPÓSITO EM QUE UMA NANOCARGA É APLICADA A UM POLÍMERO E MATERIAL COMPÓSITO RESULTANTE
ArquivadaPatente de Invenção
Dados do pedido
Número
PI0701345Tipo
Patente de Invenção
Depósito
27/03/2007
Publicação
11/11/2008
Andamento no INPI
- Depósito27/03/07
- Publicação11/11/08
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 27/03/2007, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 16/11/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
PETROFLEX INDÚSTRIA E COMÉRCIO S/A
RJ, BR
Inventores
C. C. (pessoa física)
BR
C. L. (pessoa física)
BR
J. C. (pessoa física)
BR
L. S. (pessoa física)
BR
M. J. (pessoa física)
BR
P. S. (pessoa física)
BR
P. C. (pessoa física)
BR
R. M. (pessoa física)
BR
R. B. (pessoa física)
BR
Dados técnicos
Resumo técnico
PROCESSO PARA OBTENÇÃO DE MATERIAL COMPÓSITO EM QUE UMA NANOCARGA É APLICADA A UM POLIMERO E MATERIAL COMPÓSITO RESULTANTE. A presente invenção refere-se um processo de adição de nanocarga em polímeros de butadieno-estireno a partir da utilização da técnica de inchamento de argila modificada no mesmo solvente usado para síntese de nanocarga de argila em copolímeros em bloco de estireno e butadieno ou poli (estireno-co-butadieno-co-estireno) (SBS), copolímero de estireno e butadieno produzido em solução ou estirenopoli (estireno-co-butadieno) (SSBR), polibutadieno (BR) e/ou copolímero em bloco de estireno e butadieno hidrogenado (SEBS), em que o compósito resultante apresenta uma melhora na propriedade de módulo e resistência ao rasgo, sem acarretar perda nas propriedades de tensão e deformação no ponto de ruptura, sem alterar ainda as características de brilho e transparência do filme final.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
30/08/2011
RPI 2121
Publicação do pedido de patente
#3.1
11/11/2008
RPI 1975
Pedido de patente depositado
#2.1
24/07/2007
RPI 1907
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