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Dado oficial do INPI

MAÇARICO DE PLASMA E APARELHO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA PARA FABRICAR SÍLICA SINTÉTICA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2006049389

Dados do pedido

Número

PI0620801

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/12/2006

Publicação

05/06/2012

PCT

US2006049389

Andamento no INPI

  1. Depósito28/12/06
  2. Publicação05/06/12
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

Silica Tech, Llc

US

Inventores

D. W. (pessoa física)

US

M. G. (pessoa física)

RU

M. A. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

11/646362 · 28/12/2006

US

60/754281 · 29/12/2005

Resumo técnico

MAÇARICO DE PLASMA E APARELHO DE DEPOSIÇÃO DE PLASMA PARA FABRICAR SÍLICA SINTETICA É descrita um maçarico de plasma melhorado.. para fabricar sílica sintética que inclui o uso de gás de proteção de nitrogênio proveniente a tubulação de quartzo externa para fornecer isolamento do ambiente ativo. Além do mais, o presente maçarico de plasma de indução inclui um disco anular para proteção ambiental mais compacta, mas completa (360 graus de cobertura). Ela também inclui, deslocar e trocar as posições dos bicos de injeção de produtos químidos para permitir melhor deposição em ambas as direções, quando operada em um modo horizontal. Adicionalmente, o presente maçarico de plasma de indução mantém fluxo laminar para os produtos químicos injetados, e o tubo de quartzo intermediário é provido com uma seção côncava para aumentar a entalpia média do jato de plasma, melhorando assim a eficiência do maçarico de plasma. Além do mais, ela pode utilizar mais entradas de gás de plasma. Ela também inclui bicos de injeção de produtos químicos com uma inclinação angular para baixo.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2214 de 11/06/2013.

18/02/2014

RPI 2250

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

referente a 5ª e 6ª anuidade

11/06/2013

RPI 2214

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

05/06/2012

RPI 2161

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.

25/10/2011

RPI 2129

Alteração de dados cadastrais

#1.1

16/08/2011

RPI 2119

Monitoramento de patentes

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