Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2161 de 05/06/2012.
21/05/2013
RPI 2211
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Dado oficial do INPI
PROCESSO SOL-GEL PARA A FABRICAÇÃO DE MOLDES PARA PROCESSOS CATALÍTICOS E PROCESSOS DE PULTRUSÃO, EXTRUSÃO E MOLDAGEM
Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2006068139
Dados do pedido
Número
PI0619613Tipo
Patente de Invenção
Depósito
06/11/2006
Publicação
04/10/2011
PCT
EP2006068139 Andamento no INPI
- Depósito06/11/06
- Publicação04/10/11
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/05/2013. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
Degussa Novara Technology S.P.A.
IT
P.C.R. S.R.L.
IT
Inventores
L. C. (pessoa física)
IT
L. P. (pessoa física)
IT
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
IT
2005 A 002333 · 06/12/2005
Resumo técnico
PROCESSO SOL-GEL PARA A FABRICAÇÃO DE MOLDES PARA PROCESSOS CATALÍTICOS E PROCESSOS DE PULTRUSÃO, EXTRUSÃO E MOLDAGEM. A presente invenção refere-se a um processo sol-gel para a fa- bricação de moldes (2) para uso em fotocatálise. A invenção refere-se também a processos industriais de pultrusão, extrusão e moldagem em que é contemplado o uso de moldes (2), fabricados empregando o processo sol- gel de acordo com a invenção, O processo provê o fornecimento de um sol que é transformado em gel, a desidratação do gel com extração do solvente e a densificação/sinterização do gel por aquecimento com formação de um molde (2) transparente de consistência vÍ'trea, capaz de permitir a passagem de raios UV.
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento por falta de pagamento
#8.6
Referente às 4ª e 5ª anuidades.
05/06/2012
RPI 2161
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
04/10/2011
RPI 2126
Alteração de dados cadastrais
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
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