Indeferimento mantido em recurso
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
27/09/2016
RPI 2386
Dados do pedido
Número
PI0617386Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006067351 Pedido indeferido em 27/09/2016 e o recurso não mudou a decisão. A invenção não chegou a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 27/09/2016. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
C. A. (pessoa física)
FR
Europlasma
FR
Inventores
J. S. (pessoa física)
FR
M. L. (pessoa física)
FR
M. B. (pessoa física)
FR
P. G. (pessoa física)
FR
S. R. (pessoa física)
FR
U. M. (pessoa física)
FR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
FR
0553128 · 14/10/2005
Resumo técnico
DISPOSITIVO DE GASEIFICAÇÃO POR UM PLASMA TÉRMICO DE MATÉRIA PARA A GERAÇÃO DE UM GÁS DE SINTESE DE ALTA QUALIDADE E PROCESSO DE GASEIFICAÇÃO DE MATÉRIA A invenção se refere a um dispositivo de gaseificação de matéria que compreende: - um recinto (1) de mistura de um plasma e de matéria a tratar, que compreende aberturas (12, 12', 13, 13', 14) para posicionar meios de injeção de um fluxo da dita matéria e para posicionar pelo menos uma fonte de plasma, e que formam uma zona (300) de mistura homogénea de um fluxo da dita matéria e de pelo menos uma lança de plasma (200, 200'), - uma zona de reação (5a, 5b), de uma mistura da dita matéria e do plasma, em comunicação com uma abertura do recinto e que se estende de maneira axial.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#9.2.4
MANTIDO O INDEFERIMENTO UMA VEZ QUE NÃO FOI APRESENTADO RECURSO DENTRO DO PRAZO LEGAL.
27/09/2016
RPI 2386
#9.2
Indefiro o pedido de acordo com o(s) artigo(s) 8º, 11 e 13 da LPI.
31/05/2016
RPI 2369
#7.1
08/12/2015
RPI 2344
#1.3
26/07/2011
RPI 2116
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