Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
Dados do pedido
Número
PI0614048Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2006313363 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 02/09/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
JP
Inventores
K. S. (pessoa física)
JP
T. Y. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2005-189454 · 29/06/2005
Resumo técnico
MÉTODO PARA PRODUÇÃO DE SILÍCIO DE PUREZA ELEVADA. A presente invenção fornece um método para produção de silício de pureza elevada. O método para produção de silício de pureza elevada compreende uma etapa de redução do sílicio halogenado representado pela seguinte fórmula (1) com alumínio, em que o alumínio usado como um redutor tem uma pureza de não menos do que 99,9% em peso, em que n é um número inteiro de O a 3, x é pelo menos um halogénio selecionado do grupo consistindo em F, Cl, Br e 1; e a pureza do alumínio é o equilíbrio obtido deduzindo-se o% total em peso de ferro, cobre, gálio, titânio, níquel, sódio, magnésio e zinco contido no alumínio de 100% em peso.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2261 de 06/05/2014.
02/09/2014
RPI 2278
#8.6
Referente à 8ª anuidade.
06/05/2014
RPI 2261
#1.3
09/03/2011
RPI 2096
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