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Dado oficial do INPI

POLI(URÉIA URETANO) CONTENDO ENXOFRE, MÉTODO PARA PREPARAR UM POLI(URÉIA URETANO) CONTENDO ENXOFRE, ARTIGO ÓPTICO, LENTE OFTÁLMICA E ARTIGO FOTOCRÔMICO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2006018889

Dados do pedido

Número

PI0613380

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/05/2006

Publicação

11/01/2011

PCT

US2006018889

Andamento no INPI

  1. Depósito15/05/06
  2. Publicação11/01/11
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 21/11/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

PPG INDUSTRIES OHIO, INC.

US

Ver toda a carteira desta empresa

Inventores

C. R. (pessoa física)

US

M. G. (pessoa física)

US

M. O. (pessoa física)

US

N. B. (pessoa física)

US

P. Y. (pessoa física)

US

R. S. (pessoa física)

US

R. H. (pessoa física)

US

S. S. (pessoa física)

US

V. N. (pessoa física)

US

W. M. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

11/141,636 · 31/05/2005

Resumo técnico

POLI (URÉIA URETANO) CONTENDO ENXOFRE, MÉTODO PARA PREPARAR UM POLI (URÉIA URETANO) CONTENDO ENXOFRE, ARTIGO ÓPTICO, LENTE OFTÁLMICA E ARTIGO FOTOCRÔMICO. A presente invenção refere-se a um poli(uréia uretano) contendo enxofre e a um método para preparar dito poli (uréia uretano). Numa concretização, o poli (uréia uretano) contendo enxofre é adaptado para ter um índice de refração de pelo menos 1,57, um número Abbe de pelo menos 32 e uma densidade inferior a 1,3 gramas/cm^3^, quando pelo menos parcialmente curado.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 6ª anuidade.

21/11/2012

RPI 2185

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 6ª anuidade.

19/06/2012

RPI 2163

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

11/01/2011

RPI 2088

Monitoramento de patentes

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