Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 6ª anuidade.
21/11/2012
RPI 2185
Dados do pedido
Número
PI0611612Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006063087 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/11/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
B. A. (pessoa física)
DE
Inventores
E. S. (pessoa física)
DE
H. H. (pessoa física)
DE
S. B. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2005 027 702.0 · 15/06/2005
Resumo técnico
PROCESSO PARA PREPARAR UM COMPOSTO. Processo para preparar éter dimetílico de tri e tetraoximetileno glicol (POMDME~n~=~3,4~) por reação de formaldeido com metanol e subseqúentemente trabalhando a mistura de reação por destilação, compreendendo as etapas de: a) alimentar uma solução de formaldeído aquoso e metanol em um reator e reagir para dar uma mistura compreendendo formaldeido, água, metileno glicol (MG), polioximetileno glicóis (MG~n~> ~1 ~), metanol, hemiformais (HF), metilal (POMDME ~n~=~1~) e éteres dimetílicos de polioximetileno glicol (POMDME~n~>~1~); b) alimentar a mistura de reação em uma primeira coluna de destilação e separar em uma fração de ponto de ebulição baixo b1 e uma fração de ponto de ebulição elevado b2 compreendendo formaldeído, água, metanol, polioximetileno glicóis, hemiformais e éteres dimetílicos de polioximetileno glicol (POMDME~n~>~1~); c) alimentar a fração de ponto de ebulição elevado b2 em uma segunda coluna de destilação e separar em uma fração de ponto de ebulição baixo c1 compreendendo formaldeido, água, metileno glicol, polioximetileno glicóis, metanol, hemiformais, éter dimetílico de di-, tri- e tetraoximetileno glicol (POMDME~n~=~2~,~3~,~4~) e uma fração de ponto de ebulição elevado c2; d) alimentar a fração de ponto de ebulição baixo c1 em uma terceira coluna de destilação e separar em uma fração de ponto de ebulição baixo d1 e uma fração de ponto de ebulição elevado d2 substancialmente consistindo de formaldeído, água, metileno glicol, polioximetileno glicóis, éter dimetílico de tri- e tetraoximetileno glicol (POMDME~n~=~3~,~4~); e) alimentar a fração de ponto de ebulição elevado d2 em um aparelho de separação de fase e separar em uma fase aquosa e1 substancialmente consistindo de formaldeído, água, metileno glicol e polioximetileno glicóis, e uma fase orgânica e2 compreendendo éter dimetílico de tri- e tetraoximetileno glicol (POMDME~n~=~3~,~4~); f) alimentar a fase orgânica e2 em uma quarta coluna de destilação e separar em uma fração de ponto de ebulição baixo f1 substancialmente consistindo de formaldeído, água, metileno glicol e polioximetileno glicóis, e uma fração de ponto de ebulição elevado f2 substancialmente consistindo de éter dimetílico de tri- a tetraoximetileno glicol (POMDME~n~=~3~,~4~).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Não apresentada a guia de cumprimento de exigência. Referente à 6ª anuidade.
21/11/2012
RPI 2185
#8.6
Referente à 6ª anuidade.
19/06/2012
RPI 2163
#1.3
22/02/2011
RPI 2094
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
16/11/2010
RPI 2080
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