Dados do pedido
Número
PI0608702Tipo
Depósito
Publicação
PCT
US2006008996 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/11/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
VALSPAR SOURCING, INC.
US
Inventores
C. S. (pessoa física)
US
K. P. (pessoa física)
US
P. F. (pessoa física)
US
P. S. (pessoa física)
US
Classificação IPC
Prioridades unionistas
US
60/659617 · 08/03/2005
US
60/669571 · 08/04/2005
Resumo técnico
POLÃMERO, COMPOSIÃÃO QUE ABSORVE OXIGÃNIO, SOLUÃÃO, ARTIGO, E, PROCESSOS PARA PRODUZIR UM POLÃMERO SEQUESTRANTE DE OXIGÃNIO, E RESINA SEQUESTRANTE DE OXIGÃNIOPolÃmero com uma estrutura principal possuindo pelo menos uma unidade estrutural representada pela fórmula (I): onde R1, R2, R3, R4 e R5, independentemente, designam um átomo de hidrogênio, um grupo alquil substituÃdo ou não-substituÃdo, um grupo cicloalquil substituÃdo ou não-substituÃdo, ou um grupo alquenil substituÃdo ou não-substituÃdo, e n designa de preferência um número inteiro de 1 a 10.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2429 de 25-07-2017 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
21/11/2017
RPI 2446
#8.6
Referente às 7ª, 8ª, 9ª, 10ª e 11ª anuidades.
25/07/2017
RPI 2429
#1.3
11/07/2017
RPI 2427
Anulada publicação 11.6.1 da RPI 2128 de 18/10/2011 pois a mesma foi indevida.
04/07/2017
RPI 2426
Anulada publicação 6.7 da RPI 2070 de 08/09/2010 pois a mesma foi indevida.
27/06/2017
RPI 2425
Referente a petição 20070125837 de 06/09/2007.
18/10/2011
RPI 2128
#1.1
16/08/2011
RPI 2119
Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.
08/09/2010
RPI 2070
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