Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2211 de 21/05/2013.
11/02/2014
RPI 2249
Dados do pedido
Número
PI0608389Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2006002797 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 11/02/2014. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
SCHMID TECHNOLOGY SYSTEMS GMBH
DE
Inventores
C. B. (pessoa física)
DE
H. K. (pessoa física)
DE
J. B. (pessoa física)
DE
J. G. (pessoa física)
DE
Classificação IPC
Prioridades unionistas
DE
10 2005 019 686.1 · 22/04/2005
Resumo técnico
EQUIPAMENTO E METODO PARA APLICAR UMA CAMADA FINA UNIFORME DE LÍQUIDO EM SUBSTRATOS. A presente invenção refere-se a um equipamento (10) para aplicar uma camada fina uniforme de líquido, especialmente de ácido fosfórico, em células de sílicio (12) para a técnica fotovoltaica, com uma câmara de processo (14) que possuí uma bacia de líquido (16) e um dispositivo de som de alta freqUência (11) que transforma o líquido em uma névoa de líquido (15) e dotado com um equipamento de transporte (13) para as células de silício (12), disposto abaixo de um poço sob pressão (25) da câmara de processo (14) . De acordo com a presente invenção, tal equipamento (10) permite uma aplicação mais homogênea de líquido sobre as células de sílicio no que se refere tanto à superfície e à quantidade aplicada, isto pode ser alcançado pelo fato de que o poço sob pressão (25) para a névoa de líquido da câmara de processo (14) passa por um adelgaçamento do seu diâmetro livre em direção ao equipamento de transporte 13, desembocando em uma disposição de poço de passagem (40) que cobre o equipamento de transporte (13) para os substratos de sílicio (12) e que os diâmetros livres da extremidade da abertura do poço sob pressão (25) para névoa de liquido (25) e da disposição de poço de passagem (40) são mutuamente adaptados, de preferência, são essencialmente idênticos.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2211 de 21/05/2013.
11/02/2014
RPI 2249
#8.6
Referente á 7ª anui dade.
21/05/2013
RPI 2211
#1.3
29/12/2009
RPI 2034
Esclareça a divergência no sobrenome do inventor Josef Gentischer (publicação internacional e documento de prioridade) e Josef Cher (petição de entrada na fase nacional).
25/03/2008
RPI 1942
Monitoramento de patentes
Receba alertas de despachos, decisões e vencimentos do INPI para o seu portfólio.