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Dado oficial do INPI

MÉTODO PARA FORMAR UMA CAMADA PARTICULADA NAS PAREDES DE POROS DE UMA ESTRUTURA POROSA, E, DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2006015196

Dados do pedido

Número

PI0608374

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

21/04/2006

Publicação

16/11/2010

PCT

US2006015196

Andamento no INPI

  1. Depósito21/04/06
  2. Publicação16/11/10
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 04/08/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF CALIFORNIA

US

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Inventores

C. J. (pessoa física)

US

L. J. (pessoa física)

US

S. V. (pessoa física)

UY

T. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/674130 · 21/04/2005

Resumo técnico

METODO PARA FORMAR UMA CAMADA PARTICULADA NAS PAREDES DE POROS DE UMA ESTRUTURA POROSA, E, DISPOSITIVO ELETROQUÍMICO. Um método para formar um compósito (por exemplo, um eletrodo misto) por meio de infiltração de uma estrutura porosa (por exemplo, uma formada de um material ionicamente condutor) com uma solução de um precursor (por exemplo, para um material eletronicamente condutor) resulta em uma camada particulada sobre e no interior da estrutura porosa com uma única infiltração. O método envolve formar uma solução compreendendo pelo menos um sal metálico e um tensoativo; aquecimento da solução para evaporar substancialmente solvente e formar uma solução concentrada de tensoativo e sal; infiltração da solução concentrada em uma estrutura porosa para criar um compósito; e aquecimento do compósito para decompor substancialmente o sal e tensoativo partículas de metal e/ou óxido. O resultado é uma camada particulada nas paredes dos poros da estrutura porosa. Em alguns casos, a camada particulada é uma rede contínua. Dispositivos correspondentes apresentam propriedades e desempenho aperfeiçoados.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2308 de 31/03/2015.

04/08/2015

RPI 2326

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 9ª anuidade.

31/03/2015

RPI 2308

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/11/2010

RPI 2080

6.7

Solicita-se a regularização da procuração, uma vez que baseado no artigo 216 § 1° da LPI, o documento de procuração deve ser apresentado no original, traslado ou fotocópia autenticada.

24/08/2010

RPI 2068

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