Dado oficial do INPI

PADRONIZAÇÃO FOTOLITOGRÁFICA DE MATERIAIS POLIMÉRICOS

ArquivadaPatente de InvençãoPCT · AU2006000201

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Dados do pedido

Número

PI0607463

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

15/02/2006

Publicação

08/09/2009

PCT

AU2006000201

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Andamento no INPI

Depósito15/02/06
Publicação08/09/09
Arquivado
Deferimento
Concessão
Em vigor

Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 15/02/2006, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 05/07/2011. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

RPO PTY LIMITED

Inventores

D. K. (pessoa física)

R. C. (pessoa física)

Dados técnicos

Classificação IPC

G02B 6/10 G02B 6/12 G03F 7/09 G03F 7/11

Prioridades unionistas

60/653,346 · 15/02/2005

Resumo técnico

PADRONIZAÇÃO FOTOLITOGRÁFICA DE MATERIAIS POLIMÉRICOS. A invenção compreende métodos para a padronização fotolitográfica de aspectos em uma composição de polímero fotocurável revestida sobre um substrato de plástico. Em uma modalidade desta invenção, o substrato de plástico é revestido com um filme refletivo, tal como uma barreira metálica. Em uma outra modalidade, o substrato de plástico é revestido ou co-extrudado com uma camada de barreira de polimero contendo um aditivo que absorve a radiação de fotocura. Ainda em uma outra modalidade, o substrato de plástico contém um aditivo intrínseco que absorve a radiação de fotocura. Combinações destas modalidades também estão no escopo desta invenção. Os métodos da presente invenção podem ser vantajosamente aplicados à fabricação de guias de onda ôticas compreendendo um polímero fotocurável suportado sobre um substrato de plástico, mas são aplicáveis à fabricação de qualquer dispositivo ou objeto compreendendo um polímero fotocurável suportado sobre um substrato de plástico.