Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2309 de 07/04/2015.
25/08/2015
RPI 2329
Dados do pedido
Número
PI0606232Tipo
Depósito
Publicação
PCT
KR2006000663 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 25/08/2015. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
H. K. (pessoa física)
KR
Inventores
H. K. (pessoa física)
KR
H. H. (pessoa física)
KR
J. H. (pessoa física)
KR
Classificação IPC
Prioridades unionistas
KR
10-2005-0015663 · 25/02/2005
KR
10-2006-0018360 · 24/02/2006
Resumo técnico
DERIVADOS DE TIAZOLE COMO OS LIGANTES DELTA PPAR E SEUS PROCESSOS DE PRODUÇÃO. A presente invenção relaciona-se à novidade que são os derivados de tiazole, apresentados pela Fórmula I, como receptor proliferador-ativado (PPAR ) peroxisome - ligantes ativantes, que pode ser usado para o tratamento da obesidade, hiperlipidemia, aterosclerose e diabetes, como também seus intermediários e métodos de preparação.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2309 de 07/04/2015.
25/08/2015
RPI 2329
#8.6
Referente à 9ª anuidade.
07/04/2015
RPI 2309
#25.2
Indeferida a Transferência solicitada através da Petição nº 015090001615/PR de 29/05/2009, por falta de cumprimento da exigência publicada na RPI 2047 de 30/03/2010.
28/12/2010
RPI 2086
#25.3
Em resposta a Exigência publicada na RPI 2022 de 06/10/2009, através da Petição nº 015090003601/PR de 04/12/2009, permanece a falta da legalização consular brasileira que deve ser apresentada juntamente com a documentação da transferência solicitada.
30/03/2010
RPI 2047
#25.3
A fim de atender a Petição de Transferência nº 015090001615/PR de 29/05/2009, queira o interessado apresentar o documento de cessão e transferência notarizado e legalizado, mais a tradução para o português do respectivo documento.
06/10/2009
RPI 2022
#1.3
09/06/2009
RPI 2005
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