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Dado oficial do INPI

TINTA LÍQUIDA PARA IMPRESSÃO DE DUPLA CURA-SECAGEM TÉRMICA E POR RADIAÇÃO ULTRAVIOLETA OU FEIXE DE ELÉTRONS-TINTA HÍBRIDA

ArquivadaPatente de Invenção

Dados do pedido

Número

PI0604199

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

20/09/2006

Publicação

13/05/2008

Andamento no INPI

  1. Depósito20/09/06
  2. Publicação13/05/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado pelo INPI. O processo foi encerrado sem chegar a patente e a tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 24/09/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

W. P. (pessoa física)

SP, BR

Inventores

W. P. (pessoa física)

BR

Dados técnicos

Classificação IPC

Resumo técnico

TINTA LÍQUIDA PARA IMPRESSÃO DE DUPLA CURA - SECAGEM TÉRMICA E POR RADIAÇÃO ULTRAVIOLETA OU FEIXE DE ELÉTRONS - TINTA HÍBRIDA O conceito inovador de formulação de tintas com duplo processo de secagem, possuindo a tinta solventes e eventualmente resinas comuns aos sistemas solvente, quanto oligômeros, monômeros e fotoiniciadores dos sistemas UV, apresentando inovação e melhorias de: a) A primeira secagem de natureza térmica leva o estado da tinta a um ponto tal que o mesmo permite os processos subseqüentes necessários aos processos de impressão, sejam eles a sobre impressão (próximas cores seqüenciais) ou a passagem pela rolaria de passagem, revestidos ou não de material antiaderente, o que viabiliza a aplicação das tintas híbridas em rotogravura ou máquinas flexo tipo "stack Type". b) Após vencer estas primeiras etapas, o filme de tinta aplicado é então completamente seco, ou mais propriamente dito, curado ao final da máquina impressora, por meio da radiação UV ou EB; c) A presente tecnologia permite a obtenção de tintas de altíssimos sólidos - entre 65% e 95%, com baixo VOC (Emissão de Solventes Orgânicos Voláteis); d) Redução expressiva dos custos das tintas em relação às tintas UV pois ocorre elevação da eficiência de cura por redução do uso de monômeros, permitindo a redução do nível percentual de fotoiniciadores.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Manutenção do arquivamento

#11.20

24/09/2020

RPI 2594

Arquivamento - Art. 34 da LPI

#11.5

ARQUIVADO O PEDIDO, UMA VEZ QUE NÃO FORAM ATENDIDAS AS EXIGÊNCIAS PREVISTAS NO ART. 34 DA LPI. DESTA DATA CORRE O PRAZO DE 60(SESSENTA) DIAS PARA EVENTUAL RECURSO DO INTERESSADO.

06/09/2016

RPI 2383

Republicação - classificação IPC

#15.11

As classificações anteriores eram: C09D 11/02, C09D 11/10

25/08/2015

RPI 2329

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

18/02/2015

RPI 2302

Publicação do pedido de patente

#3.1

13/05/2008

RPI 1949

Pedido de patente depositado

#2.1

19/12/2006

RPI 1876

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