PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE PÓ DE ALUMINA ALFA VIA ALUMINA GAMA ADITIVADA APROPRIADO PARA A FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS CERÂMICOS USADOS NA CONSTRUÇÃO DE FOTORESISTORES (COMPONENTES LDR)

Classificação IPC

Resumo técnico

PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE PÓ DE ALUMINA ALFA VIA ALUMINA GAMA ADITIVADA APROPRIADO PARA A FABRICAÇÃO DE SUBSTRATOS CERÂMICOS USADOS NA CONSTRUÇÃO DE FOTORESISTORES (COMPONENTES LDR). A presente invenção diz respeito a um processo de produção de pó de alumina alfa via alumina gama aditivada. Este processo envolve: fusão alcalina de uma fonte comercial e barata de alumina hidratada; obtenção de uma solução de aluminato - silicato de sódio; neutralização com HNO~ 3~; envelhecimento; lavagem; secagem; moagem; calcinação (600 °C); peptização; adsorção de Ca e/ou Mg e/ou Zr; secagem; e calcinação (600 °C e 1000 °C). Pós obtidos com 90,40% de A1~ 2~O~ 3~, 6,70% de SiO~ 2~, 1,75% de CaO, 1,07% de ZrO~ 2~, ?0,03% de MgO, 0,04% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,03% de Na~ 2~O; com 95,13% de A1~ 2~0~ 3~, 2,07% de SiO~ 2~, 1,70% de CaO, 1,03% de ZrO~ 2~, ?0,03% de MgO, 0,04% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,03% de Na~ 2~O; e com 99,80% de A1~ 2~O~ 3~, ?0,06% de SiO~ 2~, ?0,03% de CaO, ?0,01% de ZrO~ 2~, ?0,02% de MgO, 0,03% de Fe~ 2~O~ 3~ e 0,04% de Na~ 2~O sinterizam a altas densidades, respectivamente, a 1450 °C/4 horas, 1550 °C/4 horas e ??1625 °C/4 horas. Campo de aplicação: - material abrasivo; -fabricação de suportes de catalisadores empregados na conversão de gases automotivos; e - conformação de corpos cerâmicos de alta densidade, do tipo substratos cerâmicos para construção de fotoresistores (componentes LDR), os quais têm grande aplicação na indústria optoeletrônica.