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Dado oficial do INPI

APARELHO DE EVAPORAÇÃO CONTÍNUA INDUSTRIAL

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · JP2005022796

Dados do pedido

Número

PI0519818

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

12/12/2005

Publicação

17/03/2009

PCT

JP2005022796

Andamento no INPI

  1. Depósito12/12/05
  2. Publicação17/03/09
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

A. C. (pessoa física)

JP

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Inventores

H. H. (pessoa física)

JP

K. M. (pessoa física)

JP

S. F. (pessoa física)

JP

Dados técnicos

Prioridades unionistas

JP

2004-367637 · 20/12/2004

Resumo técnico

APARELHO DE EVAPORAÇÃO CONTÍNUA INDUSTRIAL. É um objeto da presente invenção, no caso de um aparelho em que um líquido contendo material tendo um ponto de ebulição menor do que o do líquido é levado a fluir descendentemente ao longo de superficies externas de guias, durante este tempo o material de ponto de ebulição baixo é evaporado, de modo a proporcionar um aparelho específico que pode ser operado de modo estável durante um período de tempo prolongado em uma escala industrial de modo que não menos que 1 tonelada/hora de líquido é produzida através da evaporação e, além disso, para proporcionar um aparelho de evaporação industrial específico, de acordo com o qual não ocorrem problemas devido à degeneração causada por alguma parte do líquido residindo no aparelho durante um período de tempo prolongado. O presentes inventores chegaram à presente invenção quando descobriram que o objeto acima poderia ser atingido, e que um líquido concentrado ou polimero de condensação ou polímero termoplástico, de qualidade elevada e pureza elevada, poderia ser facilmente obtido, por uso de um aparelho de evaporação contínua industrial tendo uma estrutura especificada em que se tem guias que não tem, elas mesmas, uma fonte de calor, um membro de controle de trajeto de fluxo, tendo uma função de levar o líquido alimentado sobre uma placa perfurada, a partir de uma abertura de recepção dc líquido, a fluir principalmente a partir de uma porção periférica em direção a uma porção central da placa perfurada, é instalado em uma zona de alimentação de líquido, a placa perfurada e os furos na mesma correspondem às relações especificadas nas (fórmulas (6) e (7)), e as fórmulas (1) a (5), preferivelmente fórmulas (1) a (13), ou preferivelmente fórmulas (1) a (15), são atendidas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

23/10/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

29/05/2012

RPI 2160

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

17/03/2009

RPI 1993

Monitoramento de patentes

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