Arquivamento definitivo por descumprimento
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.
23/10/2012
RPI 2181
Dados do pedido
Número
PI0519817Tipo
Depósito
Publicação
PCT
JP2005022795 Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
A. C. (pessoa física)
JP
Inventores
H. H. (pessoa física)
JP
K. M. (pessoa física)
JP
S. F. (pessoa física)
JP
Classificação IPC
Prioridades unionistas
JP
2004-367636 · 20/12/2004
Resumo técnico
APARELHO DE EVAPORAÇÃO INDUSTRIAL. É um objeto da presente invenção, no caso de um aparelho em que um líquido contendo um material tendo um ponto de ebulição menor do que o do líquido é levado a fluir descendentemente ao longo das superficies externas de guias, durante este tempo o material de ponto de ebulição baixo é evaporado, de modo a proporcionar um aparelho específico que pode ser operado de modo estável durante um período de tempo prolongado em uma escala industrial, de modo que não menos que 1 tonelada/hora do líquido é produzida através da evaporação e, além disso, proporcionar um aparelho de evaporação industrial específico, em que não ocorrem problemas devido à degeneração causada por alguma parte do líquido residir no aparelho durante um período de tempo prolongado. Os presentes inventores alcançaram a presente invenção quando descobriram que o objeto acima poderia ser obtido, e que um liquido concentrado ou polimero de condensação ou polímero termoplástico, de qualidade elevada e pureza elevada, poderia ser facilmente obtido, por uso de um aparelho de evaporação industrial tendo uma estrutura especificada em que existem guias que não tem, elas mesmas, fonte de calor, um membro de controle de trajeto de fluxo tendo uma função de levar o líquido, alimentado sobre uma placa perfurada a partir da abertura de recepção de líquido, a fluir principalmente de uma porção periférica em direção a uma porção do meio da placa perfurada, é instalado em uma zona de alimentação de líquido, a distância K (cm) entre a parede interna da uma caixa de parede lateral de uma zona de evaporação e a guia mais próxima da parede interna está em uma faixa especificada, e as fórmulas (1) a (5), preferivelmente fórmulas (1) a (11), mais preferivelmente fórmulas (1) a (14), são atendidas.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#8.11
Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.
23/10/2012
RPI 2181
#8.6
Referente às 5ª e 6ª anuidades.
29/05/2012
RPI 2160
#1.3
17/03/2009
RPI 1993
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