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Dado oficial do INPI

COMPOSIÇÃO PROTETORA E DE LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS, ESFREGÃO OU PANO E PROCESSO PARA LIMPEZA E TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES DURAS, PARA TRATAMENTO ANTIMICROBIANO E PARA SUPRESSÃO DE FORMAÇÃO DE BIOFILME

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · EP2005056256

Dados do pedido

Número

PI0518886

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

28/11/2005

Publicação

16/12/2008

PCT

EP2005056256

Andamento no INPI

  1. Depósito28/11/05
  2. Publicação16/12/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 07/02/2017. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC

CH

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Inventores

A. P. (pessoa física)

CH

B. J. (pessoa física)

US

J. M. (pessoa física)

US

Z. S. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Classificação IPC

Prioridades unionistas

US

60/635,195 · 07/12/2004

US

60/685,235 · 26/05/2005

Resumo técnico

COMPOSIÇÃO PROTETORA E DE LIMPEZA DE SUPERFÍCIES DURAS, ESFREGÃO OU PANO E PROCESSO PARA LIMPEZA E TRATAMENTO DE SUPERFÍCIES DURAS, PARA TRATAMENTO ANTIMICROBIANO E PARA SUPRESSÃO DE FORMAÇÃO DE BIOFILME. A presente invenção refere-se a uma composição de limpeza para superfícies duras contendo um composto polimérico compreendendo uma estrutura principal derivada pelo menos dos seguintes componentes monoméricos: (1) 20 a 99,9% em peso de pelo menos um monômero catiônico de acordo com a fórmula (1) onde R~ 1~ e R~ 2~ são, independentemente um do outro, hidrogênio ou C~ 1~-C~ 4~ alquila; R~ 3~ e R~ 4~ são, independentemente um do outro, hidrogênio ou alquila, hidroxialquila, caboxil alquila, caboxiamida alquila ou alcoxialquila tendo de 1 a 18 átomos de carbono; e Y representa um ânion, e (II) 0,1 a 80% em peso de um monômero não-iônico insaturado hidrófobo que polimeriza na presença de um iniciador; opcionaímente até 60% em peso de um monômero solúvel em água (III) que é diferente do mo- nômero (1) ou do monômero (II); e opcionalmente um reagente (IV), um agente de reticulação em uma quantidade entre O a 10% em peso, dá propriedades melhoradas de remoção da sujeira, propriedades antimicrobianas e supressoras de biofilmes bem como resistência a subseqüentes sujeiras e manchas.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Em virtude do arquivamento publicado na RPI 2388 de 11-10-2016 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantido o arquivamento do pedido de patente, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.

07/02/2017

RPI 2405

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente à 11ª anuidade.

11/10/2016

RPI 2388

Pedido suspenso — exigência de documentos

#6.6

10/02/2016

RPI 2353

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

16/12/2008

RPI 1980

Monitoramento de patentes

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