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Dado oficial do INPI

ESTRUTURA E MEIOS DE FILTRO COM CAPACIDADE ELEVADA, RESISTÊNCIA ELEVADA

Arquivada/ExtintaPatente de InvençãoPCT · US2005039793

Dados do pedido

Número

PI0517720

Tipo

Patente de Invenção

Depósito

04/11/2005

Publicação

21/10/2008

PCT

US2005039793

Andamento no INPI

  1. Depósito04/11/05
  2. Publicação21/10/08
  3. Arquivado
  4. Deferimento
  5. Concessão
  6. Em vigor

Pedido arquivado por falta de pagamento das anuidades (art. 86 da LPI). A tecnologia está em domínio público no Brasil.

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Última movimentação publicada pelo INPI: 23/10/2012. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.

Depositantes e inventores

Depositantes

DONALDSON COMPANY, INC.

US

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Inventores

K. D. (pessoa física)

US

L. O. (pessoa física)

US

Dados técnicos

Prioridades unionistas

US

10/982,538 · 05/11/2004

Resumo técnico

ESTRUTURA E MEIOS DE FILTRO COM CAPACIDADE ELEVADA, RESISTÊNCIA ELEVADA.Na filtração de materiais fluidos, a remoção de material em partículas a partir do fluxo em movimento requerpressão substancial para manter o fluxo e capacidade substancial a fim de remover material em partículas. Os filtros da invenção são robustos, materiais de resistência úmida elevada tendo um peso base, permeabilidade e eficiência apropriadas para obter redução substancial em carregamento de material em partículas a partir dos fluxos líquidos sem obstrução ou falha mecânica. Em particular, os filtros da invenção permitem a remoção de proporções substanciais de material em partículas a partir de fluxos não aquosos incluindo óleos lubrificantes, fluidos hidráulicos e outros fluxos contaminados.

Histórico de despachos

Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).

Arquivamento definitivo por descumprimento

#8.11

Referente ao despacho 8.6 publicado na RPI 2160 de 29/05/2012.

23/10/2012

RPI 2181

Arquivamento por falta de pagamento

#8.6

Referente às 5ª e 6ª anuidades.

29/05/2012

RPI 2160

Notificação de entrada na fase nacional - PCT

#1.3

21/10/2008

RPI 1972

Monitoramento de patentes

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