Arquivamento definitivo - Art. 33 da LPI
#11.1.1
21/09/2010
RPI 2072
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Dado oficial do INPI
PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATOS REVESTIDOS POR MAGNETRON E FONTE DE PULVERIZAÇÃO POR MAGNETRON
ArquivadaPatente de InvençãoPCT · CH2005000441
Dados do pedido
Número
PI0516204Tipo
Patente de Invenção
Depósito
26/07/2005
Publicação
26/08/2008
PCT
CH2005000441 Andamento no INPI
- Depósito26/07/05
- Publicação26/08/08
- Arquivado
- Deferimento
- Concessão
- Em vigor
Pedido arquivado: o exame técnico não foi requerido nos 36 meses seguintes ao depósito de 26/07/2005, prazo do art. 33 da LPI. A tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 21/09/2010. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes e inventores
Depositantes
OC Oerlikon Balzers AG
LI
Inventores
J. W. (pessoa física)
DD
Dados técnicos
Classificação IPC
Prioridades unionistas
CH
1578/04 · 28/09/2004
Resumo técnico
PROCESSO PARA PRODUÇÃO DE SUBSTRATOS REVESTIDOS POR MAGNETRON E FONTE DE PULVERIZAÇÃO POR MAGNETRON. A presente invenção refere-se à operação de pulverização, se ajustar a distribuição da taxa de pulverização ao longo da área de pulverização (3s) em uma fonte de magnetron, é correspondentemente variada a distância de uma parte (7~ a1~, 7~ b1~) da disposição magnética (7~ a~, 7~ b~) no lado traseiro de alvo (3~ R~).
Histórico de despachos
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
Arquivamento - Art. 33 da LPI
#11.1
11/05/2010
RPI 2053
Notificação de entrada na fase nacional - PCT
#1.3
26/08/2008
RPI 1964
6.7
Esclareça o depositante a divergência existente no nome do depositante entre a petição inicial e a publicação WO2006/034598 de 06/04/2006.
04/09/2007
RPI 1913
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