Concessão da patente
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 18/02/2020, observadas as condições legais
18/02/2020
RPI 2563
Dados do pedido
Número
PI0515926Tipo
Depósito
Publicação
PCT
NL2005000709 Patente concedida em 18/02/2020 e em vigor até 30/09/2025. Até lá, ninguém pode fabricar, usar ou vender a invenção no Brasil sem autorização do titular.
Proteção válida até:30/09/2025
Última movimentação publicada pelo INPI: 18/02/2020. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
O. O. (pessoa física)
FI
Inventores
A. E. (pessoa física)
NL
Classificação IPC
Prioridades unionistas
NL
1027143 · 30/09/2004
Resumo técnico
"VÁLVULA DISTRIBUIDORA ROTATIVA PARA TRATAMENTO FÍSICO/QUÍMICO DE UM FLUIDO". A presente invenção se refere a um sistema (1) para tratamento físico/químico de um fluido, em que uma válvula distribuidora (3, 4) foi instalada para alimentação/descarga do fluido para diversos reatores (2) ou proveniente de diversos reatores. A válvula distribuidora consiste de uma placa de válvula com placa estacionária (18) e placa rotativa (19). Um corpo cilíndrico contendo um número de furos axiais (11, 12) que se modificam dentro de furos radiais (13) e surgem na parede de uma carcaça estacionária (24), se junta à placa rotativa e gira com a mesma. Um número de entradas/saídas (17) localizadas uma após a outra, visualizada na direção axial, é proporcionado na carcaça estacionária. De acordo com a invenção, os diversos furos radiais no corpo cilíndrico são providos com um fluido através de furos axiais, com base em uma única placa de válvula (19).
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#16.1
10 (dez) anos contados a partir de 18/02/2020, observadas as condições legais
18/02/2020
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