Dados do pedido
Número
PI0509896Tipo
Depósito
Publicação
PCT
EP2005051522 Patente concedida em 12/07/2016 e depois extinta em 14/05/2024. A proteção terminou antes do prazo e a tecnologia está em domínio público no Brasil.
Falar com um especialistaÚltima movimentação publicada pelo INPI: 14/05/2024. Atualizamos a cada nova RPI, publicada semanalmente.
Depositantes
B. S. (pessoa física)
DE
BASF SPECIALTY CHEMICALS HOLDING GMBH
CH
CIBA HOLDING INC.
CH
CIBA SPECIALTY CHEMICALS HOLDING INC.
CH
IGM GROUP B.V.
NL
Inventores
D. W. (pessoa física)
US
E. S. (pessoa física)
US
G. L. (pessoa física)
US
J. J. (pessoa física)
US
Prioridades unionistas
US
60/562,513 · 15/04/2004
Resumo técnico
PROCESSO DE FOTOCURA COM DIODO EMISSOR DE LUZ. A presente invenção refere-se a um processo para fotocurar certos sistemas de camadas espessas etilenicamente não-saturadas com uma fonte luminosa (LED) de diodo emissor de luz. As composições espessas curáveis são revestimentos espessos, camadas de gel, compostos e adesivos. O fotoiniciador é, pelo menos, um óxido de biacilfosfina ou óxido de monoacilfosfina.O processo fornece excelente cura de surperfície e cura em toda a extensão.
Publicações na Revista da Propriedade Industrial (RPI).
#24.10
Em virtude da extinção publicada na RPI 2769 de 30-01-2024 e considerando ausência de manifestação dentro dos prazos legais, informo que cabe ser mantida a extinção da patente e seus certificados, conforme o disposto no artigo 12, da resolução 113/2013.
14/05/2024
RPI 2784
#21.6
Referente à 19ª anuidade.
30/01/2024
RPI 2769
#25.1
13/04/2021
RPI 2623
#25.1
30/03/2021
RPI 2621
#25.1
16/03/2021
RPI 2619
#25.4
02/03/2021
RPI 2617
#16.1
12/07/2016
RPI 2375
#9.1
26/04/2016
RPI 2364
#6.1
15/12/2015
RPI 2345
#7.1
19/05/2015
RPI 2315
#1.3
30/10/2007
RPI 1921
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